企業概況(由AIBKO整理) 20240422 12:34 更新
科毅科技股份有限公司成立於2001年，是一家半導體暨光電設備製造商，專注於黃光製程設備及材料。該公司提供光罩對準曝光機、UV平行光源、光阻塗佈機、顯影機等產品，並擁有機械組裝廠房生產線，專注於光罩對準曝光機的設計製造。此外，該公司設有class 1000等級無塵室，提供光罩製作及製程設備測試之更佳環境。該公司也銷售4"~32"玻璃光罩及代理英國Andor公司的科研用高靈敏相機、光譜儀等光學儀器。該公司的客戶遍及全亞洲，包括各類半導體/光電廠商和各大研究單位。
該公司的產品包括光罩對準曝光機、半導體曝光機、平行曝光機等，並提供各種規格的光源和曝光面積，以及不同波長的光源選擇。該公司的產品具有優良的均勻性和功率供應，並配備雙通道電源供應和CCD相機對準系統，以及各種鏡頭和顯示器選項。
該公司提供的服務包括光罩製作、製程設備測試和售後服務。該公司致力於為客戶提供高品質的產品和專業的技術支持，以滿足客戶的需求。
在未來，科毅科技將繼續致力於技術創新和產品研發，不斷提升產品品質和服務水準，以滿足客戶不斷增長的需求。該公司期待與更多客戶合作，共同開拓市場，實現互利共贏的局面。
如果您對該公司的產品和服務感興趣，歡迎與該公司聯繫，該公司期待與您合作，共同創造美好的未來。
公司介紹
科毅科技股份有限公司
成立於2001年為一半導體暨光電設備製造商,致力成為黃光製程設備及材料的專家，目前提供光罩對準曝光機，UV平行光源，,光阻塗佈機， 顯影機，光罩( 4 ~32 )製作，設有機械組裝廠房生產線，專精於光罩對準曝光機之設計製造，以及設有class 1000等級無塵室，提供光罩製作及製程設備測試之更佳環境，並銷售4 ~32 玻璃光罩及代理英國Andor公司之科研用高靈敏相機，光譜儀，共軛焦系統等光學儀器，客戶遍及全亞洲( Taiwan、 China、 Singapore、 India ) 包括各類半 導體/光電廠商(奇美、 友達、 和鑫、 晶元、 鼎元、 連勇、 聯勝、 華夏光電....等) 及各大研究單位(中研院、中科院、 工研院、 台大、 清大、 交大、 成大、 海大、 中山大學 ...etc)。
產品簡介
關鍵詞：光罩對準曝光機,導體曝光機,平行曝光機,曝光機,曝光機原理,曝光機平行光,
AG Mask Aligner Specification
Light Source:
NUV/DUV light source: 350W, 500W, 1000W. 2KW, 5 KW, 8KW
Exposure area :4”,6”, 8”, 10”, 12”or larger (up to 24”)
Wavelength: NUV (included 365nm, 400nm, 436nm.), DUV (220nm, 254nm...etc.)
Uniformity: ±1~3% to ± 5%
Power supply:
Two Channels (Channel A/B) with CI/CP mode
Regular (CP: Constant Power) and/or Intensity Control (CI: Constant Intensity & CP) type Image (Microscope) system:
Dual CCD Camera Alignment System : 50X-300X , 90X-600X , 180X~1200x or 250X-1500X
Lens Tubes with Video zoom magnification
B & W (or Color) Monitors: 9”, 12”, 14”, 17”
Ring illumination:
(2-separate fiber rings), adjustable fiber optic illuminators,
Camera separation range : less ring illuminators 4.3cm~ 20 cm (option with Prism could be smaller to 10cm)
Camera Purge hood could be option – prevent particle
Single field or Split filed Microscope option is available.
Alignment Fixture:
Mask vacuum chuck: 4”, 5”, 7”, 9” or Larger (either top or bottom load are all available)
Wafer(substrate) vacuum chuck:
round or Square 2”, 4”, 6” 8”, Larger all with multi substrate and pre-alignment pin
Mask , Wafer Auto leveling (planarize ) function
Adjustable Vacuum pressure
With Proximity, Hard , Soft Contact mode
X,Y axis a
