科毅科技股份有限公司

科毅科技股份有限公司成立於2001年，是一家半導體暨光電設備製造商，專注於黃光製程設備及材料。該公司提供光罩對準曝光機、UV平行光源、光阻塗佈機、顯影機等產品，並擁有機械組裝廠房生產線，專注於光罩對準曝光機的設計製造。此外，該公司設有class 1000等級無塵室，提供光罩製作及製程設備測試之更佳環境。該公司也銷售4"~32"玻璃光罩及代理英國Andor公司的科研用高靈敏相機、光譜儀等光學儀器。該公司的客戶遍及全亞洲，包括各類半導體/光電廠商和各大研究單位。

該公司的產品包括光罩對準曝光機、半導體曝光機、平行曝光機等，並提供各種規格的光源和曝光面積，以及不同波長的光源選擇。該公司的產品具有優良的均勻性和功率供應，並配備雙通道電源供應和CCD相機對準系統，以及各種鏡頭和顯示器選項。

該公司提供的服務包括光罩製作、製程設備測試和售後服務。該公司致力於為客戶提供高品質的產品和專業的技術支持，以滿足客戶的需求。

在未來，科毅科技將繼續致力於技術創新和產品研發，不斷提升產品品質和服務水準，以滿足客戶不斷增長的需求。該公司期待與更多客戶合作，共同開拓市場，實現互利共贏的局面。

如果您對該公司的產品和服務感興趣，歡迎與該公司聯繫，該公司期待與您合作，共同創造美好的未來。

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關鍵詞：光罩對準曝光機,導體曝光機,平行曝光機,曝光機,曝光機原理,曝光機平行光,
AG Mask Aligner Specification

Light Source:
NUV/DUV light source: 350W, 500W, 1000W. 2KW, 5 KW, 8KW
Exposure area :4”,6”, 8”, 10”, 12”or larger (up to 24”)
Wavelength: NUV (included 365nm, 400nm, 436nm.), DUV (220nm, 254nm...etc.)
Uniformity: ±1~3% to ± 5%

Power supply:
Two Channels (Channel A/B) with CI/CP mode 
Regular (CP: Constant Power) and/or Intensity Control (CI: Constant Intensity & CP) type Image (Microscope) system:
Dual CCD Camera Alignment System : 50X-300X , 90X-600X , 180X~1200x or 250X-1500X
Lens Tubes with Video zoom magnification
B & W (or Color) Monitors: 9”, 12”, 14”, 17”

Ring illumination:
(2-separate fiber rings), adjustable fiber optic illuminators,
Camera separation range : less ring illuminators 4.3cm~ 20 cm (option with Prism could be smaller to 10cm)
Camera Purge hood could be option – prevent particle
Single field or Split filed Microscope option is available.

Alignment Fixture:
Mask vacuum chuck: 4”, 5”, 7”, 9” or Larger (either top or bottom load are all available)

Wafer(substrate) vacuum chuck:
round or Square 2”, 4”, 6” 8”, Larger all with multi substrate and pre-alignment pin
Mask , Wafer Auto leveling (planarize ) function
Adjustable Vacuum pressure
With Proximity, Hard , Soft Contact mode
X,Y axis a

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